PECVD Wafer Load/Unload System

为了防反射涂层 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 设备 提供传输硅片的自动化上下料设备 .
把硅片中 花篮里面抽取后 传送到工艺 multiple configuration tray 在把搭载硅片的 PECVD 设备 利用 载板传送到 ARC工艺 工艺结束后 再把搭载在 载板上的硅片下料的设备.
把硅片中 花篮里面抽取后 传送到工艺 multiple configuration tray 在把搭载硅片的 PECVD 设备 利用 载板传送到 ARC工艺 工艺结束后 再把搭载在 载板上的硅片下料的设备.